wafer per i circuiti del film sottile, wafer per il semiconduttore che elabora, substrati componenti dell'allumina dell'allumina del sensore

Possiamo fabbricare i wafer dell'allumina fino ad una dimensione massima di φ300mm (pollice φ12).
Con un'alta densità e pochi pori, è possibile formare i modelli fini del circuito.
Inoltre trattiamo i substrati con fori rotondi/quadrati dell'indennità o le fessure come pure i substrati lucidati.

Applicazioni principali

• Substrati di A.Alumina per i circuiti del film sottile
• Substrati componenti di B.Sensor
• C.Substrates per l'elaborazione a semiconduttore

Caratteristiche

• Capace di fabbricare fino ad una dimensione massima di φ300 millimetro (pollice φ12).
• Il materiale ha una rugosità di superficie bassa (Ra 0.02μm o più di meno) e pochi pori di superficie che permette di formare i modelli fini del circuito.
• L'alta resistenza alla flessione permette uno spessore riduttore.
• La tangente piccola di perdita dielettrica nella banda ad alta frequenza lo rende ideale per uso con i circuiti ad alta frequenza.

Wafer dell'allumina

La nostra società
 

Elettrico ceramico speciale di Wuxi pricipalmente produce l'allumina, il nitruro di silicio, il biossido di zirconio, la steatite, il nitruro di boro, la cordierite, prodotti della mullite, ampiamente usati nella saldatura del metallo, il conduttore elettronico, i meccanici, montanti, l'isolamento, i prodotti chimici, lo strumento, il tessuto, l'industria nucleare, campo aereo. Accettiamo i prodotti di prova secondo il disegno o il campione. Richiedono solitamente i 15 giorni per finire il prodotto di prova. I prodotti di massa richiedono solitamente i 30 giorni. Il pacchetto delle merci è cartone o PLT.It può essere negoziabile a vicenda.
Pricipalmente vendiamo le merci al gruppo di illuminazione di toshiba nel Giappone e lo scopo di Europe.Our è di consegnare le merci con alta qualità alla data di consegna rapida.

Garanzia di qualità: prodotti di massa tramite ispezione 100%