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Polished-Surface Al2O3 Ceramic Wafer Chuck Mirror Finish Alumina Vacuum Grade for Semiconductor Processing Equipment

Dettagli del prodotto

Luogo di origine: Jiangsu, Cina

Marca: Wuxi Special Ceramic

Certificazione: ISO 9001:2015

Numero di modello: WS-AL-PS14

Termini di pagamento e di spedizione

Quantità di ordine minimo: 10 pezzi

Prezzo: US$10~US$180/Piece

Imballaggi particolari: Cartoni per l'esportazione con inserti in schiuma, pallettizzati per il trasporto marittimo o ae

Tempi di consegna: 15-30 giorni dopo la conferma

Termini di pagamento: T/T, L/C, Western Union

Capacità di alimentazione: 100.000 pezzi al mese

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Evidenziare:

Polished Alumina Wafer Chuck

,

Mirror Finish Ceramic Part

,

Semiconductor Processing Equipment

Contenuto di allumina:
99,5% Al2O3
Finitura superficiale:
Specchio lucido
Rugosità superficiale:
Ra 0,02 u.m
Grado di purezza:
Grado di vuoto
Densità:
3,92 g/cm3
Colore:
Avorio
Applicazione:
attrezzature di lavorazione dei semiconduttori
temperatura massima di uso:
1700 gradi C
Contenuto di allumina:
99,5% Al2O3
Finitura superficiale:
Specchio lucido
Rugosità superficiale:
Ra 0,02 u.m
Grado di purezza:
Grado di vuoto
Densità:
3,92 g/cm3
Colore:
Avorio
Applicazione:
attrezzature di lavorazione dei semiconduttori
temperatura massima di uso:
1700 gradi C
Polished-Surface Al2O3 Ceramic Wafer Chuck Mirror Finish Alumina Vacuum Grade for Semiconductor Processing Equipment
In semiconductor processing, the surface that touches the wafer must be perfect: smooth enough to avoid particle trapping, clean enough to avoid contamination, and stable enough to hold wafers flat at process temperature. Our Polished-Surface Al2O3 Ceramic Wafer Chucks are pressed and sintered from vacuum grade 99.5% alumina, then ground and polished to a mirror finish with roughness down to 0.02 microns Ra. The dense, non-porous surface releases wafers cleanly, resists the
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